......


    第七天。


    凌晨两点零三分。


    帝都的夜很安静。


    中关村的路灯坏了两盏，没人修。


    地下室里，VAX-11的风扇嗡嗡地转。


    司徒渊敲下最后一个回车键。


    仿真程序运行了五十一分钟。


    屏幕上的代码，像瀑布一样狂泄。


    三个人谁都没坐。


    张秉谦站在屏幕左侧，老花镜推到了额头上，反而不戴了。


    林希站在右侧，双手插在裤兜里。


    司徒渊站在正中间，手搭在键盘边框上，指甲盖发白。


    瀑布停止。


    最后三行。


    全是悦目的纯绿色。


    `ISA Bus Timing: PASSED`


    `All Timing Constraints: MET`


    `Total Viotions: 0`


    张秉谦摘下额头上的老花镜。


    他没喊，没笑。


    他把眼镜折好，小心翼翼地放进胸口的口袋里。


    然后他蹲了下去。


    蹲在冰凉的瓷砖地面上，双手捂住了脸。


    肩膀在抖。


    没有声音。


    林希转过头，不去看他。


    司徒渊也转过头。


    去看那台冰箱大小的机器。


    米白色的外壳上，DEC的标志在地下室的日光灯管下反着光。


    他盯着那个标志看了几秒。


    然后伸出手，轻轻地拍了拍机箱外壳。


    “谢了。”他用英语说。


    声音很轻。


    直播间安静了整整八秒。


    然后弹幕像潮水一样涌上来。


    【零违规！！！全部通过！！！】


    【七天！三个人干了别人一个团队半年的活！】


    【张工那双膝盖上的白印到底磨掉了几层皮啊】


    【不说了，眼睛进沙子了】


    ......


    从中关村的地下室，到津门二厂的轰鸣。


    短短几天，犹如跨越了一个时代。


    七月一号。


    津门无线电二厂。


    硅基产线全速开动。


    这是GK-3光刻机浴火重生后的第一次实弹操演。


    陈默亲自操机，手指搭在对焦旋钮上，眼睛贴着目镜。


    光栅尺的数字跳动，伺服电机精准补偿每一个微米的误差。


    曝光。


    显影。


    硅片上的线条清晰锐利，边缘笔直。


    刻蚀环节，BOE槽液控温稳定在三十五度。


    第一批硅片过检，沟槽完美。


    陈默回头冲林希竖了个大拇指。


    直到离子注入。


    长安771所支援的国产离子注入机是十年前的老型号。


    苏佩兰和王铁山两个老师傅在机器旁边守了一天一夜，反复调整参数。


    打出来的硅片，送到显微镜下一看。


    掺杂深度分布不均匀。


    有的区域深了，有的区域浅了。


    像一块没发好的面，有些地方鼓着，有些地方瘪着。


    直接后果：芯片漏电。


    测试探针扎下去，电流一路跑偏，根本锁不住。


    苏佩兰试了七组参数，全部失败。


    “机器太老了。”


    她摘下防尘面罩，额头上全是汗。


    “束流不稳，真空也拉不到位。”


    车间里的气氛沉下去了。


    光刻过了，刻蚀过了，偏偏倒在了最基础的掺杂上。


    林希站在注入机旁边，手扶着冰凉的金属外壳。


    他闭上眼睛。


    脑海中，直播间的弹幕已经开始翻涌。


    【离子注入！关键参数来了！！！】


    【我查了771所这批机器的资料——核心问题是束流电流太低导致注入时间过长，硅片在真空腔里受热不均匀！】


    【解法很简单但很反直觉——把束流电流提上去！10mA！加速电压拉到50keV！让注入时间缩短，减少热积累！】


    【最关键的一步：真空度！必须拉到10的负5次方帕斯卡！不然残余气体会和离子束发生散射，杂质分布肯定不均匀！】


    【对！这台老机器的分子泵其实能达到这个真空度，但出厂预设太保守了，得手动调旁通阀把抽速拉满！】


    林希睁开眼。


    “苏师傅。”


    苏佩兰回头。


    “束流电流调到10毫安。”


    “加速电压拉到50千电子伏特。”


    苏佩兰愣了一下。


    “电流10毫安？”


    “这台机器设计上限才8……”


    “旁通阀全开，把真空度拉到10的负5次方帕。”


    林希的声音很稳，


    “抽速够了以后，束流不会散。”


    苏佩兰看了看旁边的王铁山。


    王铁山沉默了几秒，走到机器后面。


    蹲下去看了看分子泵的参数铭牌。


    “能拉到。”


    他直起腰，


    “负5次方没问题，就是没人敢这么用。”


    “那就用。”林希说。


    王铁山没再犹豫。


    他抱着扳手绕到机器背面，拧开旁通阀。


    苏佩兰深吸一口气，坐回操作台。


    束流电流：10mA。


    加速电压：50keV。


    真空度读数开始往下掉。


    10的负3次方。


    负4次方。


    分子泵的声音变得尖锐。


    负5次方。


    稳住了。


    “注入。”林希说。


    苏佩兰按下启动键。


    机器轰鸣声骤然变调，像一头沉睡的野兽被唤醒。


    离子束击中硅片表面。


    六十秒。


    一百二十秒。


    注入结束。


    苏佩兰取出硅片，双手端着，走到显微镜前。


    车间里所有人的呼吸都停了。


    她把硅片放上载物台，调焦。


    看了三秒。


    又调了一下倍率。


    再看了五秒。


    她抬起头。


    嘴唇哆嗦了两下。


    “均匀的。”


    她的声音带着哭腔。


    “深度完全一致。”


    王铁山冲过去，把她从椅子上挤开，自己趴到目镜上看。


    看完，他直起腰，一屁股坐在了地上。


    “成了。”


    两个字。


    直播间弹幕彻底爆炸。


    【流片成功！！！华国硅基芯片流片成功了！！！】


    【1983年！自主光刻机+自主离子注入！流片流程打通！】


    【这帮老师傅是真的牛，参数给到位了，手上的活一点不含糊】


    【哭了哭了，跪在地上画版图，趴在机器前调参数，这就是华国芯片的第一步】


    林希站在车间中央。


    周围是沸腾的欢呼声。


    林希转头看向窗外。


    七月底的津门，太阳正落。


    晚霞把整个二厂的厂房染成暗红色。


    司徒渊不知道什么时候走到他旁边。


    两人并排站着，看着窗外。


    “林总。”司徒渊开口。


    “嗯。”


    “流片成功了，但这只是工程样片。”


    司徒渊推了推眼镜。


    “量产之前，还差最后一步，”


    “封装，测试。”